高真空超洁净气氛炉集真空抽气系统、真空炉膛、温度控制系统、气路系统、压力保护系统为一体。炉衬使用多层钨钼金属反射屏制作而成。
采用钨片为加热元件;是专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析、生产而研制的专用设备。
高真空超洁净气氛炉集真空抽气系统、真空炉膛、温度控制系统、气路系统、压力保护系统为一体。炉衬使用多层钨钼金属反射屏制作而成。
采用钨片为加热元件;是专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析、生产而研制的专用设备。
| 产品型号 | HITSemi-VAF-1500 |
| 温度控制系统 |
长期工作温度:1400°C(可选配,1600°C) |
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控制范围:50°C~1800°C |
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控温精度:±1°C(集成化电路控制,无超调现象) |
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炉内温场均匀度:±2°C(根据加热室大小而定) |
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升温速率:可自由调节,范围:最快升温速率每分钟20°C(非线性)、最慢升温速率每小时1°C(非线性) |
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| 炉膛 |
炉膛尺寸(有效热场):300mm × 200mm × 200 mm |
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发热元件:高纯金属钨片(禁止在800°C以上通入N2) |
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发热元件安装位置:鼠笼式结构 |
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隔热保温:炉膛内采用10层反射屏(3层钨、2层钼、2层310S、3层304) |
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| 炉体结构 |
炉体结构:304不锈钢水冷双层炉体结构,保证良好工作环境 |
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炉体外壳温度:长期使用不停炉,外壳温度小于45°C(有水温检测) |
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| 水冷系统 | 接口:进、排水口设有接口,可直接连接用户循环水系统 |
| 保护:排水管带过压保护;停水时声光报警和互锁装置启动,同时开启紧急冷却水 | |
| 冷水机(可选配) | |
| 真空系统 |
极限真空度:6×10-4 Pa(空炉冷态洁净) |
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工作真空度:6×10-3 Pa(空炉洁净) |
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| 真空机组 |
分子泵+机械泵(可选配,干泵) |
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气路系统 |
可通气体:Ar、H2 |
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充气系统:加热过程中可调节真空度 |
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| 控制形式 |
半自动/全自动 |
| 控制系统 |
PLC+触摸屏 |
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供电 |
三相五线制,AC 380V,50Hz;90KVA(设备供电由两路组成,一路系统供电,一路加热供电) |
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功率 |
60KW |
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冷却水 |
≤100L/min |
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水压 |
0.1Mpa~0.15MPa |
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水温 |
18℃~25℃ |
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气动部件供气压力 |
0.5MPa~0.7MPa |
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质量流量控制器供气压力 |
0.05MPa~0.2MPa |
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工作环境温度 |
10℃~40℃ |
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工作环境湿度 |
≤50% |
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